{"id":4179,"date":"2026-05-26T05:46:32","date_gmt":"2026-05-26T05:46:32","guid":{"rendered":"https:\/\/icstm2.ingesta.ro\/?post_type=lp_course&#038;p=4179"},"modified":"2026-06-09T19:13:04","modified_gmt":"2026-06-09T19:13:04","slug":"depuneri-in-vid-straturi-metalice-si-dielectrice-prin-sputtering","status":"publish","type":"lp_course","link":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/echipamente\/depuneri-in-vid-straturi-metalice-si-dielectrice-prin-sputtering\/","title":{"rendered":"VACUUM DEPOSITIONS OF METAL AND DIELECTRIC LAYERS BY SPUTTERING"},"content":{"rendered":"<p>Acest echipament este un dispozitiv PVD (Physical Vapor Deposition), pentru crearea de filme sub\u0163iri, folosind metoda de depunere prin pulverizare (<strong>sputtering<\/strong>). Echipamentul con\u0163ine 2 surse de pulverizare sau magnetroane, care pot fi \u00eenc\u0103rcate cu materialele de acoperire cu compozi\u0163ia dorit\u0103. Pulverizarea se ob\u0163ine cu tensiune \u00eenalt\u0103 DC sau radiofrecven\u0163\u0103 RF \u00een plasm\u0103 argon, dar se pot folosi \u015fi alte gaze pentru crearea acoperirilor prin metoda de pulverizare reactiv\u0103. Acest echipament este configurat pentru argon \u015fi azot. Se pot depune p\u00e2n\u0103 la 6 materiale secven\u0163ial sau 2 materiale simultan pe substraturi de p\u00e2n\u0103 la 250 mm.<\/p>\n<p>Incinta de depunere conectat\u0103 la sistemul de vid are urm\u0103toarele caracteristici:<\/p>\n<ul>\n<li>diametrul camerei de lucru: \u00d8 454 mm;<\/li>\n<li>mod de lucru, \u00een vid \u00eenalt \u015fi vid ultra \u00eenalt<br \/>\n( &lt; 5&#215;10<sup>-8<\/sup> torr);<\/li>\n<li>2 surse magnetron dimensiuni sursa: 2\u201d diametru.<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong><em>Modul de lucru: <\/em><\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>pulverizare reactiv\u0103;<\/li>\n<li>pulverizare catodic\u0103 (sputtering) confocal\u0103 ;<\/li>\n<li>rotirea suportului de substrat cu dimensiunea de 4\u201d;<\/li>\n<li>posibilit\u0103\u021bi de \u00eenc\u0103lzire a suportului substratelor p\u00e2n\u0103 la 350 \u00b0C;<\/li>\n<li>2 surse pneumatice pentru shutere;<\/li>\n<li>sistem pentru m\u0103surarea \u00een situ a grosimii straturilor depuse cu ajutorul unei microbalan\u0163e cu cristal din cuar\u0163;<\/li>\n<li>sistem de introducere a gazelor ( Ar, N<sub>2<\/sub>, \u015fi aer comprimat);<\/li>\n<li>sistem de evacuare;<\/li>\n<li>4 porturi adi\u0163ionale pentru upgradare.<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong><em>\u00a0<\/em><\/strong><\/p>\n<p><strong><em>Aplica\u0163ii:<\/em><\/strong><\/p>\n<p><strong>Straturi sub\u0163iri \u0219i multistraturi din:<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>straturi sub\u0163iri pentru celule solare;<\/li>\n<li>semiconductori;<\/li>\n<li>metale conductive \/ metale rezistive \/ izolatori;<\/li>\n<li>multistraturi magnetice cu magnetorezisten\u021b\u0103 gigantic\u0103 (GMR, TMR);<\/li>\n<li>senzori din straturi sub\u0163iri;<\/li>\n<li>conductori electrici transparen\u0163i (de ex. ITO);<\/li>\n<li>aplica\u0163ii de comunica\u0163ii optice (de ex \u201epump lasers\u201d);<\/li>\n<li>acoperiri de lentile (reflectiv, antireflectiv, color);<\/li>\n<li>metale pre\u0163ioase (cu utilizare maxim\u0103 a catodului);<\/li>\n<li>acoperiri pentru implanturi chirurgicale \/ medicale.<\/li>\n<\/ul>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<p><strong>Comparativ cu alte metode de depunere:<\/strong><\/p>\n<p>Un avantaj important al depunerii prin pulverizare catodic\u0103 (sputtering) \u00eel constituie faptul c\u0103, materialele chiar cu puncte de topire foarte \u00eenalte sunt u\u0219or pulverizate \u00een timp ce evaporarea acestora cu un evaporator tip rezisten\u021b\u0103 sau celul\u0103 Knudsen este dificil de ob\u0163inut sau chiar imposibil. Prin depunere sputtering filmele au o compozi\u021bie apropiat\u0103 de cea a materialului surs\u0103. Diferen\u021bele care apar se datoreaz\u0103, r\u0103sp\u00e2ndirii diferitelor elemente, din cauza masei lor (elementele u\u0219oare sunt deviate mai u\u0219or de gazul din incint\u0103), dar aceast\u0103 diferen\u021b\u0103 este constant\u0103. Filmele pulverizate au de obicei o aderen\u021b\u0103 mai bun\u0103 pe substrat dec\u00e2t filmele evaporate. \u021ainta con\u021bine o cantitate mare de material, nu con\u021bine componente fierbin\u021bi (pentru a evita \u00eenc\u0103lzirea acestea sunt de obicei r\u0103cite cu ap\u0103) \u0219i sunt compatibile cu gaze reactive, cum ar fi oxigenul. Pulverizare poate fi realizat\u0103 de sus \u00een jos \u00een timp ce evaporare trebuie s\u0103 fie efectuat\u0103 de jos \u00een sus.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Acest echipament este un dispozitiv PVD (Physical Vapor Deposition), pentru crearea de filme sub\u0163iri, folosind metoda de depunere prin pulverizare [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"author":1,"featured_media":4180,"menu_order":0,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","template":"","course_category":[203],"course_tag":[],"class_list":["post-4179","lp_course","type-lp_course","status-publish","has-post-thumbnail","hentry","course_category-nanomateriale-si-nanotehnologii","course"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/lp_course\/4179","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/lp_course"}],"about":[{"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/types\/lp_course"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=4179"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/lp_course\/4179\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":4181,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/lp_course\/4179\/revisions\/4181"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/media\/4180"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=4179"}],"wp:term":[{"taxonomy":"course_category","embeddable":true,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/course_category?post=4179"},{"taxonomy":"course_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/icstm.valahia.ro\/en\/wp-json\/wp\/v2\/course_tag?post=4179"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}